Máy quang phổ phát xạ plasma Ultima Expert

Model: Ultima Expert

Hãng SX: HORIBA - Nhật Bản

Trang chủ > Sản phẩm > Thiết bị phân tích

Giới thiệu:

ICP-OES là công nghệ phân tích được sử dụng cho việc phát hiện vết nguyên tố. Mẫu được chuyển hóa thành dạng sương mù và chuyển tới plasma Argon. Sau đó bị phân hủy, nguyên tử và ion hóa và bị kích thích. Cường độ ánh sáng phát ra khi nguyên tử hoặc ion trở về trạng thái năng lượng thấp hơn được ghi nhận. Mỗi nguyên tử phát ra tại bước sóng đặc trưng và các vạch đặc trưng này được sử dụng để phân tích định lượng và định tính.

Thiết bị quang phổ phát xạ plasma (ICP - OES) Ultima Expert được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng phức tạp nhất, có hiệu suất cao nhất trên thị trường với độ phân giải vượt trội, độ nhạy cao và độ ổn định cực tốt.

Thiết bị có thiết kế quang học chất lượng cao tích hợp cách tử ba chiều mật độ cao, chiều dài tiêu cự 1m, Total Plasma View độc đáo cho độ phân giải, độ nhạy, độ ổn định cao nhất cho hầu hết các ứng dụng.

Máy quang phổ phát xạ nguyên tử Ultima Expert - hust.com.vn

Thông số kỹ thuật:

Bộ nguồn phát plasma	Trạng thái rắn, 40.68 MHz, làm mát bằng nước
Dải quang phổ	120 - 800 nm
Tourch	Tuorch hoàn toàn có thể tháo rời, vòi phun bằng nhôm có đường kính trong 3 mm, ống trong và ngoài bằng thủy tinh
Bộ đưa mẫu	Ống phun ly tâm và buồng phun xoáy bằng thủy tinh, bơm nhu động 3 kênh, thiết bị bao khí.
Hệ thống quang học	Ổn định nhiệt, chiều dài tiêu cự 1 m, cách tử 2400 g/mm được sử dụng tại trật tự 1 và 2 với độ phân giải quang học < 5 pm trong dải bước sóng 120-320 nm và < 10 pm trong dải 320-800 nm
Hệ thống cách tử kép chọn thêm	Với 4320 g/mm và 2400 g/mm được sử dụng trong trật tự 1 với độ phân giải < 6 pm trong dải bước sóng 120-450 nm và <11 pm trong dải 450-800 nm.
Nguồn	1 pha, 220 - 240 V, 50 - 60 Hz, 4 kVA
Khí Argon	99,995 %
Kích thước	1696W x 698D x 604D mm
Trọng lượng	205 kg